Η τεχνολογία φυσικής εναπόθεσης ατμών (Physical Vapor Deposition, PVD) αναφέρεται στη χρήση φυσικών μεθόδων υπό συνθήκες κενού για την εξάτμιση της επιφάνειας μιας υλικής πηγής (στερεής ή υγρής) σε αέρια άτομα ή μόρια ή για τη μερική ιονισμό της σε ιόντα και τη διέλευσή της μέσω αερίου χαμηλής πίεσης (ή πλάσματος). Η διαδικασία, μια τεχνολογία για την εναπόθεση μιας λεπτής μεμβράνης με ειδική λειτουργία στην επιφάνεια ενός υποστρώματος, και η φυσική εναπόθεση ατμών είναι μία από τις κύριες τεχνολογίες επιφανειακής επεξεργασίας. Η τεχνολογία επίστρωσης PVD (physical vapor deposition) χωρίζεται κυρίως σε τρεις κατηγορίες: επίστρωση εξάτμισης κενού, επίστρωση ψεκασμού κενού και επίστρωση ιόντων κενού.
Τα προϊόντα μας χρησιμοποιούνται κυρίως σε θερμική εξάτμιση και επικάλυψη με ψεκασμό. Τα προϊόντα που χρησιμοποιούνται στην εναπόθεση ατμών περιλαμβάνουν σύρμα από βολφραμικό κλώνο, βάρκες βολφραμίου, βάρκες μολυβδαινίου και βάρκες τανταλίου. Τα προϊόντα που χρησιμοποιούνται στην επικάλυψη με δέσμη ηλεκτρονίων είναι σύρμα καθοδικού βολφραμίου, χωνευτήριο χαλκού, χωνευτήριο βολφραμίου και εξαρτήματα επεξεργασίας μολυβδαινίου. Τα προϊόντα που χρησιμοποιούνται στην επικάλυψη με ψεκασμό περιλαμβάνουν στόχους τιτανίου, στόχους χρωμίου και στόχους τιτανίου-αλουμινίου.
